La pulvérisation magnétron réactive: des plasmas
En pulvérisation conventionnelle, seule une très faible fraction de la matière pulvérisée est ionisée (quelques %) " « effet d'ombrage » si dépôt sur des substrat aux facteurs de forme élevés. Solution: Ionisation de la matière pulvérisée + BIAS négatif au niveau du …
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